ステンレス中空糸支持体を用いたTi-CHA型ゼオライト膜合成技術の確立

研究課題

体系的番号	JPMJTM20F9
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJTM20F9
研究代表者	荒木貞夫関西大学, 環境都市工学部, 准教授
研究期間 (年度)	2020 – 2021
概要	実用化が期待されるガスの膜分離プロセスにおいて、ゼオライト/多孔質セラミックスから成る従来技術が有するガス透過量および、耐熱性・耐久性の低さという課題の解決を目指す。筆者らが個別にその合成技術を有する、耐熱性・耐久性に優れたチタノシリケート型CHAゼオライト（Ti-CHA）膜を、細径化が可能なステンレス中空糸支持体上に形成する技術の開発を行う。緻密で欠陥のないTi-CHA膜のステンレス中空糸上への形成技術と、Ti-CHA膜の形成に用いる有機構造規定剤（OSDA）の低温除去技術の開発により、膜分離プロセスの実用化に必要な「ガス透過係数」、「ガス分離係数」、「耐熱性・耐久性」の達成を目指す。