新規湿式スプレー転写法による大面積・低抵抗CNT透明導電膜の技術開発
| 体系的番号 |
JPMJTM20BA |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJTM20BA |
研究代表者 |
石﨑 学 山形大学, 理学部, 講師
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| 研究期間 (年度) |
2020 – 2021
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| 概要 | 申請書が確立した「濾過転写法」は高溶媒・高基板選択性を有し、積層デバイス上へのCNT薄膜の作製が可能な独創性の高い湿式CNT薄膜作製手法である。しかし、大面積化が困難並びにデバイス展開に十分な抵抗値・透過率を示さず応用が限られる課題がある。そこで新規「スプレー転写法」の技術を確立し、膜面積100㎠、抵抗値50Ω·sq.-1、透過率80％のCNT薄膜の完成を目指し、電子デバイスに適用可能なコア技術へと発展させる。CNTの安定分散条件を明らかするとともに、界面活性剤による「分散」と「薄膜抵抗上昇」というトレードオフの関係を表面改質技術と界面接合技術により解決する。
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