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強誘電体分極と電荷の相互作用を利用した新デバイス・システム

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST

体系的番号 JPMJCR20C3
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJCR20C3

研究代表者

高木 信一  東京大学, 大学院工学系研究科, 教授

研究期間 (年度) 2020 – 2024
概要Hf系強誘電体を用いたデバイスを、その分極・ドメイン構造を物性評価に裏打ちされた作製プロセスや膜構造上の工夫によるドメインエンジニアリングを通じて、新しい応用を含めた種々の回路システムに向けて最適化し、優れた電気的特性と信頼性をもつFeFET, MFMキャパシタ, FTJといった強誘電体デバイスを実現すると共に、Hf系強誘電体材料・デバイス特性制御技術の学理を確立します。
研究領域情報担体を活用した集積デバイス・システム
  • 主な研究成果

    (24件)

すべて 2024

すべて 雑誌論文 (24件) (国際共著 1件、 査読あり 18件、 オープンアクセス 3件)

  • [雑誌論文] Robustness to device degradation in silicon FeFET-based reservoir computing2024

    • 著者名
      K. Toprasertpong, E. Nako, S.-Y. Min, Z. Cai, S.-K. Cho, R. Suzuki, R. Nakane, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS)

  • [雑誌論文] 3D Parallel ReRAM Computation-in-Memory for Hyperdimensional Computing2024

    • 著者名
      Fuyuki Kihara, Chihiro Matsui and Ken Takeuchi
    • 雑誌名

      IEICE Transactions on Electronics Brief Letter

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Electroresistance in All-Oxide RuO2/Hf0.5Zr0.5O2/ITO Ferroelectric Tunnel Junctions2024

    • 著者名
      Hiroyuki Yamada, Siddhant Dhongade, Yoshikiyo Toyosaki, Hiroyuki Matsuzaki, Akihito Sawa
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: 6 号: 5 ページ: 3395-3402

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Understanding HZO Thickness Scaling in Si FeFETs: Low Operating Voltage, Fast Wake-up, and Suppressed Charge Trapping2024

    • 著者名
      Z. Cai, K. Toprasertpong, Z. Liu, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      IEEE Trans. Electron Devices

      巻: 71 号: 6 ページ: 3633-3639

    • 査読あり
  • [雑誌論文] HfZrO-based Ferroelectric Devices for Low Power Memory and AI Applications2024

    • 著者名
      S. Takagi, K. Toprasertpong, Z. Cai, E. Nako, S.-Y. Min, Z. Liu, R. Suzuki, S.-K. Cho, R. Nakane and M. Takenaka
    • 雑誌名

      第41回強誘電体会議

      ページ: 69-70

  • [雑誌論文] Reservoir computing using nonlinear polarization and charge dynamics of anti-ferroelectric HZO/Si FETs2024

    • 著者名
      S.-Y. Min, K. Toprasertpong, E. Nako, R. Nakane, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      IEEE Si Nanoelectronics Workshop (SNW) 2024

      ページ: 37-38

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Revealing Mechanism of Non-accumulative Disturb and Approach Toward Disturb Suppression in HZO/Si FeFET Memory2024

    • 著者名
      M. Otomo, K. Toprasertpong, Z. Cai, Z. Liu, M. Takenaka and S. Takagi
    • 雑誌名

      2024 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Demonstration of Highly Robust 6 nm Ultra-Thin ZrO2-HfO2 Superlattice Ferroelectric Capacitors2024

    • 著者名
      Y.-K. Liang, Z. Liu, Z. Cai, X. Han, Y.-Y. Hsiao, H.-Y. Huang, Y.-M. Lin, E. Y. Chang, C.-H. Lin, M. Takenaka, K. Toprasertpong, and S. Takagi
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Lett.

      巻: 45 号: 8 ページ: 1468-1471

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Role of charge injection/de-trapping in imprint behavior of ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin film2024

    • 著者名
      Z. Liu, K. Toprasertpong, Z. Cai, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett., vol. 125, 072904, 2024.

      巻: 125 号: 7

    • 査読あり
  • [雑誌論文] HZO/Si FeFETメモリにおける非積算性ディスターブ機構の解明及びその低減に向けた手法の提案2024

    • 著者名
      大友将樹, トープラサートポン カシディット, 蔡作成, 劉振泓, 竹中充, 高木信一
    • 雑誌名

      応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第252回研究集会

      ページ: 21-26

  • [雑誌論文] A Novel Measurement Method to Extract Relationship Between Threshold Voltage and Polarization for Understanding FeFET Memory Operation2024

    • 著者名
      S.-K. Cho, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)

      ページ: 131-132

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Understanding of Imprint Behavior of Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin Film: Role of Charge Injection and Field Cycling2024

    • 著者名
      Z. Liu, Z. Cai, M. Takenaka, S. Takagi, and K. Toprasertpong
    • 雑誌名

      2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)

      ページ: 67-68

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Voltage-operating Reservoir computing utilizing a ferroelectric source follower2024

    • 著者名
      R. Suzuki, K. Toprasertpong, R. Nakane, E. Nako, M. Takenaka and S. Takagi
    • 雑誌名

      2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)

      ページ: 103-104

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Unipolar Polarization Switching and High-endurance Operation of HZO/Si Anti-ferroelectric FETs2024

    • 著者名
      S.-Y. Min, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)

      ページ: 83-84

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Current sensing by using piezoelectric oscillators and physical reservoir computing2024

    • 著者名
      Kei Nishimura, Norifumi Fujimura, Takeshi Yoshimura
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (Special Issues)

      巻: 63 号: 9

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Reservoir computing utilizing a complementary combination of n- and p-channel FeFETs2024

    • 著者名
      R. Suzuki, K. Toprasertpong, R. Nakane, E. Nako, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Lett.

      巻: 45 号: 10 ページ: 1768-1771

    • 査読あり
  • [雑誌論文] HfZrO2-based Ferroelectric FETs for lower power memory and AI applications2024

    • 著者名
      S. Takagi, K. Toprasertpong, Z. Cai, S.-K. Cho, M. Otomo, Z. Liu, K. Ito, E. Nako, S.-Y. Min, R. Nakane and M. Takenaka
    • 雑誌名

      2024 US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics

  • [雑誌論文] Unveiling memory-window narrowing mechanism after bipolar cycling in HZO/Si FeFETs: Critical role of hole trap generation and carrier de-trapping behavior2024

    • 著者名
      S.-K. Cho, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      70th Annual IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Recovery Strategy of Fatigue-Limited Endurance in Si FeFETs with thin HfZrO2 films2024

    • 著者名
      Z. Cai, Z. Liu, Y.-K. Liang, X. Han, S.-Y. Min, E. Nako, S.-K. Cho, C.-T. Chen, M. Takenaka, K. Toprasertpong, and S. Takagi,
    • 雑誌名

      IEEE Trans. Electron Devices

      巻: 72 号: 1 ページ: 467-473

    • 査読あり
  • [雑誌論文] HZO/Si FeFETにおけるバイポーラ・ストレス中のメモリウィンドウ劣化機構の解明:ホールトラップの生成とキャリアのデトラップ挙動の役割2024

    • 著者名
      S.-K. Cho, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      信学技報

      巻: 124 号: 367 ページ: 7-10

  • [雑誌論文] A Novel Measurement Method to Evaluate Relationship Between Threshold Voltage and Polarization for Understanding Memory Operation of Ferroelectric Field-Effect Transistors2024

    • 著者名
      S.-K. Cho, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 64 号: 2

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Unipolar Polarization Switching and High-endurance Memory Operation of HZO/Si Anti-ferroelectric FETs2024

    • 著者名
      S.-Y. Min, K. Toprasertpong, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 64 号: 2

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Voltage-Operating Reservoir Computing Utilizing Ferroelectric-FET Source Follower Configurations2024

    • 著者名
      R. Suzuki, K. Toprasertpong, R. Nakane, E. Nako, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 64 号: 2

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Polarization Current-based Reservoir Computing Utilizing an Anti-ferroelectric-like HfZrO2 Capacitor2024

    • 著者名
      S.-Y. Min, K. Toprasertpong, E. Nako, R. Nakane, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. Machine Learning

      巻: 3

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2021-03-18   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2026-09-08  

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