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分子指紋ナノワイヤによる革新的な分子単離技術の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) トライアウト トライアウト

体系的番号 JPMJTM20CW
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJTM20CW

研究代表者

寺尾 潤  東京大学, 大学院総合文化研究科, 教授

研究期間 (年度) 2020 – 2021
概要有機合成では,生成物の中から目的分子を単離する技術は効率の良い反応を開発するのと同程度に重要である.通常用いられるカラムによる分離法として,SECは同じ極性を有する構造異性体の単離にも適応可能であるため汎用性が高い.しかし,SECで用いるカラム中の物質のサイズを認識する穴の大きさにはばらつきがあり,高純度の単離を実現するためには複数回,同一のカラムを通す必要がある.このSECの技術を有機-無機ハイブリッド材料を用いた斬新な手法により高選択性・単離時間を短縮すると共に,新規単離技術の事業化を目指す.即ち,単結晶金属酸化物ナノワイヤ表面上に分離する標的分子の型をカラムとして作成し,新しい単離技術を創出する.

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2020-12-16   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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