高純度コロイダルシリカナノシートの作製とポリマーナノコンポジットへの応用

研究課題

体系的番号	JPMJTM20CL
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJTM20CL
研究代表者	下嶋敦早稲田大学, 理工学術院, 教授
研究期間 (年度)	2020 – 2021
概要	半導体封止に用いるガスバリア材料の開発は、次世代デバイスの要求性能に応じて、ポリマーと無機ナノ粒子を複合化したナノコンポジット材料へ移行している。しかし、複合材料の課題として、遮蔽性と透明性の両立、製造プロセスの複雑化が挙げられる。そこで、研究代表者らのシリカ(SiO2)構造体の精密合成・メソスケールの無機有機複合化技術と、企業側の微粒子制御・機能性高分子設計技術を融合し、粒子の均質性と量産性に優れたビルドアップ法による新規コロイド状シリカナノシート及びそれを用いたガスバリアフィルムを開発する。高純度・高アスペクト比のナノシートを高密度・均一分散し、遮蔽性と透明性を両立したフィルムを目標とする。