| 体系的番号 |
JPMJTR20RE |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJTR20RE |
| 研究責任者 |
佐野 泰久 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2020 – 2022
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| 概要 | 触媒表面基準エッチング法は，研磨粒子を用いず，触媒作用を援用することによって，純水のみを加工液として加水分解反応を誘起し，様々な材料表面を材料学的なダメージの導入なく原子的に平滑化することができる純粋な化学エッチングを原理とする表面研磨法である．研磨粒子や薬液を一切使用しないことから，これらの廃棄処理の課題が解決され，持続可能な技術としても大いに期待できる．本研究では，高能率で耐久性に優れた触媒パッドの作製法を社会実装可能なレベルで確立し，特に短波長域の精密光学デバイス表面の高性能化，高機能化技術として，実用レベルでの展開を目指す．
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