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次世代半導体開発におけるプロセス設計の革新

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 ACT-X

体系的番号 JPMJAX20A7
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJAX20A7

研究代表者

草場 彰  九州大学, 応用力学研究所, 助教

研究期間 (年度) 2020 – 2022
概要次世代半導体の開発期間を短縮するためには、プロセス条件から結晶品質を定量的に予測する必要があります。しかし、気相・表面・固相における各物理モデルを演繹的に統合したマルチスケールシミュレーションでは、目的変数のオーダーや変化方向を予測するに留まるのが現状です。本研究では、物理モデルを最新の計測データにより修正、さらに各物理モデルを帰納的に統合することで定量的な予測を実現し、プロセス設計を革新します。
研究領域AI活用で挑む学問の革新と創成

報告書

(4件)
  • 2022 事後評価書 ( PDF )   終了報告書 ( PDF )
  • 2021 年次報告書 ( PDF )
  • 2020 年次報告書 ( PDF )

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2021-03-18   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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