体系的番号 |
JPMJAX20A7 |
DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJAX20A7 |
研究代表者 |
草場 彰 九州大学, 応用力学研究所, 助教
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研究期間 (年度) |
2020 – 2022
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概要 | 次世代半導体の開発期間を短縮するためには、プロセス条件から結晶品質を定量的に予測する必要があります。しかし、気相・表面・固相における各物理モデルを演繹的に統合したマルチスケールシミュレーションでは、目的変数のオーダーや変化方向を予測するに留まるのが現状です。本研究では、物理モデルを最新の計測データにより修正、さらに各物理モデルを帰納的に統合することで定量的な予測を実現し、プロセス設計を革新します。
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研究領域 | AI活用で挑む学問の革新と創成 |