極限エピタキシー技術が拓く量子輸送の物理

研究課題

戦略的な研究開発の推進創発的研究支援事業

体系的番号	JPMJFR202N
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJFR202N
研究代表者	打田正輝東京工業大学, 理学院物理学系, 准教授
研究期間 (年度)	2022 – 2028 (予定)
概要	化合物半導体に象徴されるように薄膜作製技術の向上は常に新しい量子輸送の物理を開拓してきました。本研究では、これまで結晶性・純度がそれぞれ課題となってきたヒ化物・酸化物の分子線エピタキシー成長技術を極限まで追求することで、トポロジカル・強相関物質の高品質なエピタキシャル薄膜とヘテロ構造の作製について強固な技術基盤を構築し、将来のエレクトロニクスの可能性を切り拓く革新的量子輸送機能の創出を目指します。
研究領域	川村パネル

報告書

(4件)

主な研究成果
(5件)

すべて雑誌論文 (5件) (国際共著 1件、査読あり 5件)

[雑誌論文] Magnetic structure of a single-crystal thin film of EuCd2Sb22024
- 著者名
  E. Heinrich, A. Nakamura, S. Nishihaya, E. Weschke, H. Ronnow, M. Uchida, B. Flebus, and J.-R. Soh
- 雑誌名
  
  Physical Review B
  
  巻: 110 号: 024405
- 査読あり / 国際共著
[雑誌論文] Topological Hall effect enhanced at magnetic transition fields in a frustrated magnet EuCd22024
- 著者名
  S. Nishihaya, Y. Watanabe, M. Kriener, A. Nakamura, and M. Uchida
- 雑誌名
  
  Physical Review B
  
  巻: 110 号: 035159
- 査読あり
[雑誌論文] Unconventional two-dimensional quantum oscillations in three-dimensional thick SrRuO3 films2024
- 著者名
  Y. Matsuki, S. Nishihaya, M. Kriener, R. Oshima, F. Miwa, and M. Uchida
- 雑誌名
  
  Applied Physics Letters
  
  巻: 125 号: 113105
- 査読あり
[雑誌論文] Distinct topological Hall responses in CeCu2-type EuZn2 and EuCd2 films2024
- 著者名
  Y. Watanabe, S. Nishihaya, M. Kriener, A. Nakamura, and M. Uchida
- 雑誌名
  
  Applied Physics Letters
  
  巻: 125 号: 211902
- 査読あり
[雑誌論文] In-Plane Anomalous Hall Effect Associated with Orbital Magnetization: Measurements of Low-Carrier Density Films of a Magnetic Weyl Semimetal2024
- 著者名
  A. Nakamura, S. Nishihaya, H. Ishizuka, M. Kriener, Y. Watanabe, and M. Uchida
- 雑誌名
  
  Physical Review Letters
  
  巻: 133 号: 236602
- 査読あり