量子散乱による超高均一ゲル形成の学理解明とその展開

研究課題

体系的番号	JPMJFR201Z
研究代表者	ＬｉＸｉａｎｇ東京大学, 物性研究所, 助教
研究期間 (年度)	2021 – 2027 (予定)
概要	ゲルなどの高分子架橋材料は、不均一な微細構造を持つことが知られています。申請者は、架橋前の高分子の空間充填状態を調整することで、常識を覆す超均一ゲルの合成に成功しました。均一化によって、ゲルの力学強度などの物性は大きく向上し、理論限界にほぼ到達しました。本提案では、均一架橋構造形成の学理を、量子散乱による構造解析で解明し、ゲルのみならず、ゴムや樹脂などの種々の架橋材料の超均一化を目指します。
研究領域	福島パネル

報告書

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