| 体系的番号 |
JPMJTM20QT |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJTM20QT |
研究代表者 |
山本 智昭 地方独立行政法人鳥取県産業技術センター, 企画・連携推進部企画室 兼 電子・有機素材研究所有機発酵担当, 主任研究員
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| 研究期間 (年度) |
2021
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| 概要 | 深紫外域（250～280nm）で反射性に優れ、高熱伝導性を有するスクリーン印刷可能な無機系レジストインク（プリント基板表面の絶縁保護膜）およびLED用基板を開発する。深紫外線による新型コロナウイルスの不活化技術が注目されているが、この領域での紫外線（UV）反射性に優れているのはアルミナ基板等のセラミック基板のみである。本提案では、今までに得られている深紫外域での反射率約78％の無機レジスト組成条件をもとに、UV反射率90％以上で＋α機能として熱伝導率3W/m・K以上の無機系レジストインクの実現を目指し、①UV反射材であるアルミナの高充填化技術および②熱伝導材の最適配合組成技術を確立する。
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