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狭ギャップⅣ族混晶による赤外多帯域受発光集積デバイス

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST

体系的番号 JPMJCR21C2
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJCR21C2

研究代表者

中塚 理  名古屋大学, 大学院工学研究科, 教授

研究期間 (年度) 2021 – 2026
概要赤外多帯域素子応用に向けて、狭バンドギャップ(< 0.2 eV)かつ高効率光電変換を実現する直接遷移IV族混晶半導体ヘテロ構造を創製し、準安定な混晶材料の特性を損じない欠陥制御および低サーマルバジェットプロセスの学理・技術を構築します。さらに、狭ギャップIV族混晶ダイオードなど受発光素子のSi LSIプラットフォーム上集積や赤外多帯域撮像素子の試作・動作実証に取り組みます。
研究領域情報担体を活用した集積デバイス・システム

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2022-05-09   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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