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非平衡系Ⅳ族混晶半導体ヘテロ接合によるテラヘルツ帯デバイスの創出

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 さきがけ

体系的番号 JPMJPR21B6
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJPR21B6

研究代表者

柴山 茂久  名古屋大学, 大学院工学研究科, 助教

研究期間 (年度) 2021 – 2024
概要本研究では、これまでに正孔の共鳴現象を観測した実績のあるGeSiSn/GeSnヘテロ接合のデバイス化を始点として、(1)安定動作が可能なデバイス構造設計指針の、実験と理論の両面からの解明(2)RTDデバイス動作の信頼性向上に向けたGe(Si)Sn結晶欠陥・絶縁膜/Ge(Si)Sn界面欠陥制御の要素技術開発を行い、GeSiSn/GeSnヘテロ接合RTDデバイスの室温動作実証を行う。
研究領域情報担体とその集積のための材料・デバイス・システム

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2022-05-09   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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