| 体系的番号 |
JPMJPR21Q3 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJPR21Q3 |
研究代表者 |
片山 司 北海道大学, 電子科学研究所, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2021 – 2024
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| 概要 | 従来、誘電・光学材料で用いられているセラミック材料のほとんどは酸化物であり、酸フッ化物の応用は限られていました。しかし、酸フッ化物の有する大気安定性と酸化物以上の電気絶縁性・広バンドギャップは、酸フッ化物が酸化物以上の機能を誘電・光学材料分野で発揮する期待があることを示唆しています。そこで本研究では酸フッ化物の高絶縁性・広バンドギャップを活かした新規誘電体材料、磁気光学材料の創出を進めていきます。
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| 研究領域 | 物質探索空間の拡大による未来材料の創製 |
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