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半導体ハードウェアセキュリティを強化するナノX線源の開発

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 ACT-X

体系的番号 JPMJAX22K7
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJAX22K7

研究代表者

澁谷 達則  産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 研究員

研究期間 (年度) 2022 – 2024
概要半導体デバイスを狙ったサイバー攻撃が全世界的に増加しています。しかし、半導体の持つナノ構造を非破壊的に計測することは難しく、サイバー攻撃パラメータと半導体ナノ構造パラメータの紐付けはできていません。そこで本研究では、ナノレベルの非破壊測定を実現するために、レーザー誘導ナノ化技術を応用した新しいナノX線源の実現を目指します。
研究領域リアル空間を強靭にするハードウェアの未来

報告書

(2件)
  • 2023 年次報告書 ( PDF )
  • 2022 年次報告書 ( PDF )
  • 主な研究成果

    (1件)

すべて 2024

すべて 雑誌論文 (1件) (国際共著 1件、 査読あり 1件、 オープンアクセス 1件)

  • [雑誌論文] Mid-infrared dielectric laser acceleration in a silicon dual pillar structure2024

    • 著者名
      Leon Bruckner, Toma? Chlouba, Yuya Morimoto, Norbert Schonenberger, Tatsunori Shibuya, Thomas Siefke, Uwe D. Zeitner, Peter Hommelhoff
    • 雑誌名

      Optics Express

    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2023-12-27   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2026-09-08  

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