安定相制御による超低消費電力変換素子に関する研究

研究課題

体系的番号	JPMJFR222M
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJFR222M
研究代表者	西中浩之京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授
研究期間 (年度)	2023 – 2029 (予定)
概要	現代の電気社会において、電力ロスの小さなパワーデバイスの重要性は非常に高くなっています。本研究では超省エネ社会に向けて、従来の材料が持たない新機能を安定相制御によって付与させることを検討して、「究極の低電力ロスを実現する新原理とそれを達成する新材料によるパワーデバイス」に関する研究を行います。この研究によって現在のパワーデバイスの研究に大きな風穴を開け、新しい学術分野の確立を目的としています。
研究領域	井村パネル

報告書

(3件)

主な研究成果
(9件)

すべて 2024

すべて雑誌論文 (9件) (査読あり 9件、オープンアクセス 9件)

[雑誌論文] Crystallographic and band structure analysis of β-(Al<inf>x</inf>Ga<inf>1?x</inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/β-(In<inf>y</inf>Ga<inf>1?y</inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf> thin film grown on β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> substrate via mist CVD2024
- 著者名
  Masahiro Kaneko, Hiroyuki Nishinaka, Masahiro Yoshimoto
- 雑誌名
  
  AIP Advances
  
  巻: 14 号: 4
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Enhancing growth rate in homoepitaxial growth of β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> with flat surface via hydrochloric acid addition in mist CVD2024
- 著者名
  Ryo Ueda, Hiroyuki Nishinaka, Hiroki Miyake, Masahiro Yoshimoto
- 雑誌名
  
  AIP Advances
  
  巻: 14 号: 8
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Demonstration of β-(Al<inf>x </inf>Ga<inf>1?x </inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> superlattice growth by mist chemical vapor deposition2024
- 著者名
  Masahiro Kaneko, Hiroki Miyake, Hiroyuki Nishinaka
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers
  
  巻: 63 号: 9
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Tolerance of Corundum‐Structured Tin‐Doped Indium Oxide Thin Films to Gamma‐ray Irradiation2024
- 著者名
  Kazuki Shimazoe, Shunsuke Kurosawa, Hiroki Tanaka, Takushi Takata, Hiroyuki Nishinaka
- 雑誌名
  
  physica status solidi (b)
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Growth of water-insoluble rutile GeO2 thin films on (001) TiO2 substrates with graded Ge x Sn1-x O2 buffer layers2024
- 著者名
  Kazuki SHIMAZOE, Temma Ogawa, Hiroyuki NISHINAKA
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Heteroepitaxial Growth of NiO Thin Films on (‐201) β‐Ga2O3 by Mist Chemical Vapor Deposition2024
- 著者名
  Gen Yasui, Hiroki Miyake, Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka
- 雑誌名
  
  physica status solidi (b)
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Composition Analysis of β-(In x Ga 1- x ) 2 O 3 Thin Films Coherently Grown on (010) β-Ga 2 O 3 via Mist CVD2024
- 著者名
  Hiroyuki Nishinaka, Yuki Kajita, Shoma Hosaka, Hiroki Miyake
- 雑誌名
  
  Science and Technology of Advanced Materials
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Stabilization and Semiconductor Functionality of Metastable δ-Ga2O3: Buffer Layer Engineering for Deep UV Photodetection2024
- 著者名
  Takahiro Kato, Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka
- 雑誌名
  
  ACS Applied Electronic Materials
- 査読あり / オープンアクセス
[雑誌論文] Highly conductive Si-doped β-(AlxGa1−x)2O3(010) thin films via mist chemical vapor deposition2024
- 著者名
  S. Hosaka, K. Kanegae, H. Miyake, and H. Nishinaka
- 雑誌名
  
  AIP Adv.
  
  巻: 15 ページ: 035045
- 査読あり / オープンアクセス

安定相制御による超低消費電力変換素子に関する研究

研究代表者

西中 浩之 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授

報告書

主な研究成果

[雑誌論文] Crystallographic and band structure analysis of β-(Al<inf>x</inf>Ga<inf>1?x</inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/β-(In<inf>y</inf>Ga<inf>1?y</inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf> thin film grown on β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> substrate via mist CVD2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Enhancing growth rate in homoepitaxial growth of β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> with flat surface via hydrochloric acid addition in mist CVD2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Demonstration of β-(Al<inf>x </inf>Ga<inf>1?x </inf>)<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/β-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> superlattice growth by mist chemical vapor deposition2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Tolerance of Corundum‐Structured Tin‐Doped Indium Oxide Thin Films to Gamma‐ray Irradiation2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Growth of water-insoluble rutile GeO2 thin films on (001) TiO2 substrates with graded Ge x Sn1-x O2 buffer layers2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Heteroepitaxial Growth of NiO Thin Films on (‐201) β‐Ga2O3 by Mist Chemical Vapor Deposition2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Composition Analysis of β-(In x Ga 1- x ) 2 O 3 Thin Films Coherently Grown on (010) β-Ga 2 O 3 via Mist CVD2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Stabilization and Semiconductor Functionality of Metastable δ-Ga2O3: Buffer Layer Engineering for Deep UV Photodetection2024

著者名

雑誌名

[雑誌論文] Highly conductive Si-doped β-(AlxGa1−x)2O3(010) thin films via mist chemical vapor deposition2024

著者名

雑誌名

西中浩之京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授