一次元ナノ空間におけるヘテロ接合の理解と作製技術の創出
| 体系的番号 |
JPMJPR23H5 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJPR23H5 |
研究代表者 |
中西 勇介 東京都立大学, 大学院理学研究科, 助教
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| 研究期間 (年度) |
2023 – 2026
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| 概要 | ナノチューブなどの一次元ナノ空間に形成する直径数nm以下の「原子細線」は究極的に細い電子材料として長年注目されていますが、外部から隔絶されたナノ空間への電極接続は難しく、デバイス研究は限られています。本研究では、ナノ空間と外部をつなぐヘテロ接合を実現し、原子細線の電子特性を最大限に引き出す電極接合技術を開発します。実際にデバイスを作製し、動作実証することで、原子細線の活用基盤の構築を目指します。
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| 研究領域 | 新原理デバイス創成のためのナノマテリアル |
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