薄膜界面・構造の不均一性による創発トポロジカル物性
体系的番号 |
JPMJPR23HA |
DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJPR23HA |
研究代表者 |
茂木 将孝 東京大学, 大学院工学系研究科, 助教
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研究期間 (年度) |
2023 – 2026
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概要 | 二次元物質の捻りが生む非一様なモアレ模様に起因する、新奇な電気、光応答に注目が集まっています。本研究では、物質の非一様性を広く捉え、分子線エピタキシー薄膜合成技術を活用したヘテロ界面歪みや組成制御を通して不均一性をデザインすることにより、物質のトポロジーに着目した新たな電子機能を開拓します。さらに、先端レーザー技術による物質の非平衡状態生成を通じた超高速トポロジカル相スイッチの実現にも挑戦します。
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研究領域 | 新原理デバイス創成のためのナノマテリアル |