| 体系的番号 |
JPMJTR25RC |
| 研究責任者 |
硯里 善幸 山形大学, 有機エレクトロニクスイノベーションセンター, センター長・教授
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| 研究期間 (年度) |
2025 – 2027 (予定)
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| 概要 | バリア技術は様々な産業で利用され、エレクトロニクス分野ではデバイスやセンサを水蒸気からの保護層として使用されている。高いガスバリア性能を必要とする場合、従来では真空成膜法が用いられるが、本プロジェクトでは高生産性・低コスト化に有利な塗布法を用いる。具体的には溶液プロセスにより得られた薄膜に光照射し、緻密な無機膜を形成することで水蒸気バリア膜の形成を行う。特にバリア膜のサブナノ空隙に着目した陽電子消滅法による緻密性評価とその改善によるバリア性能向上に加え、平坦化層開発によりバリア構造の層数を大幅に低減する。更にパターニングを可能とし、任意の場所におけるバリア層の形成技術を開発する。
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