| 体系的番号 |
JPMJER8502 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJER8502 |
研究代表者 |
吉田 庄一郎 株式会社ニコン, 取締役
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1985 – 1990
|
| 概要 | 先端技術の急速な発展に伴い微細化・精密化技術はナノメータ(10-9m)領域へ入り込んできました。このプロジェクトでは、ナノメータで物を計測、制御、加工する手法を探索し、それを可能とする機械・機構の要素技術について研究を行いました。研究により、1ナノメータでの位置決めを可能とする超精密位置制御システムを実現し、半導体技術や精密加工技術などの広い分野での応用が期待されています。また、二波長レーザー測長装置により空気のゆらぎの影響を除去しナノメータオーダの測長を可能としました。さらに、加工表面や生物試料を観察するためのSEM-STM複合装置の作製、粒子ビームによる超平滑面の加工手法の開発、高反射率X線光学多層膜の作製などの基盤技術を確立し、ナノテクノロジーともいうべき新しい分野を切り拓くことに大きく貢献しました。
|
|---|
