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酸化膜除去とプラズマによる半導体作成

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 さきがけ

体系的番号 JPMJPR91F4
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJPR91F4

研究代表者

尾笹 一成  理化学研究所, 研究員

研究期間 (年度) 1991 – 1994
概要電子ビームを用いた微細加工法及び光励起活性分子を利用した多元の原子層エピタキシー法を検討し、これらを組み合わせた化合物半導体(AlGaAs等)の3次元微細ヘテロ構造の製作方法の確立を目指します。
研究領域構造と機能物性

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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