分子で描くアラベスク

研究課題

体系的番号	JPMJPR92F1
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJPR92F1
研究代表者	大島久純日本電装株式会社, 基礎研究所, 主務
研究期間 (年度)	1992 – 1995
概要	水素で覆われたシリコン表面上に有機金属分子等を規則的に吸着させた後、気相反応や光分解等によって水素や炭素等の不要な原子のみを取り除くことで、ナノスケールでの原子の2次元パターンを実現する可能性を探ります。
研究領域	構造と機能物性