自己集合膜を利用したストレスの制御とパターニング

研究課題

体系的番号	JPMJPR02A6
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJPR02A6
研究代表者	板倉明子物質・材料研究機構, 材料研究所, 主任研究員
研究期間 (年度)	2002 – 2005
概要	ストレスは物質の歪みや破壊に繋がるものとして悪印象がありますが、ストレスが存在する場所だけで反応性が上がったり、ポテンシャルが変化したりして、利用の可能性も秘めています。本研究は自己集合膜が作るストレスがイオン照射で大きく変わることを利用し、ストレス変調表面を作り、反応制御のパターニングを行うことを目的としています。この研究により、ナノ描画手法の一つとしてストレスを用いることが可能となります。
研究領域	情報、バイオ、環境とナノテクノロジーの融合による革新的技術の創製

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