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相関エレクトロニクス

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST

体系的番号 JPMJCR9884
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJCR9884

研究代表者

平山 祥郎  日本電信電話株式会社, 基礎研究所, 特別研究員

研究期間 (年度) 1998 – 2003
概要理想的な半導体薄膜ならびにナノ構造で現れる強いキャリア相関に着目し、現在物性研究に留まっている半導体における相関効果の研究を、半導体量子計算や半導体中でのキャリア超流動などのインパク卜の大きな相関効果に発展させることをめざします。具体的には薄膜構造における電子-電子(正孔-正孔、電子-正孔)の相関、結合ドット間のキャリアの相関、キャリアと核スピンやキャリアと電磁波との相互作用を研究し、(量子)相関エレクトロニクスの可能性を追究します。
研究領域電子・光子等の機能制御

報告書

(2件)
  • 2003 事後評価書 ( PDF )   終了報告書 ( PDF )

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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