研究代表者 |
平尾 一之 京都大学, 大学院工学研究科, 教授
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2004
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| 概要 | 光コンピュータ、超高密度光メモリー等、光通信工学の構築には空間選択的かつ超微細領域に光学材料の作製技術が必須です。「フォトンクラフト」とはフェムト (10^-15) 秒レーザーと称される強力なレーザーの集光性、コヒーレンス性を活用し、ガラス内部に新しい光学素子の創製を実現しようとする技術です。レーザーを用いてガラス内部に光導波路を描き込むことで、微細な3次元光回路の作製を可能としました。Ag、Auイオン含有シリケート系ガラスに空間選択的に金属の析出、消去が制御可能であることも確認しました。これは超高密度メモリーの開発につながるものです。 本研究は中国科学院と共同で行われました。日本側がレーザー物理化学と量子光学の研究を行い、ナノ (10*-9) メートルレベルの人工光学結晶製作技術、超高速スキャニング技術を開発し、中国側が結晶化学、量子化学の研究を行い、希土類含有光学材料などの材料開発を行ってきました。 本研究の成果は、これまでにない光学素子の創出、さらには光コンピュータへの発展が期待されます。
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