研究代表者 |
臼井 博明 東京農工大学, 大学院共生科学技術研究院, 助教授
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| 研究期間 (年度) |
2006
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| 概要 | フッ素系高分子は優れた物性を持つが、既存技術では製膜が困難であり、従来のプロセスで必要となるハロゲン系溶媒も環境負荷が大きい問題がある。そこで新規に電子線アシスト型物理蒸着法を用いることにより、無溶媒の真空クローズドプロセスによってフッ素系高分子薄膜を形成する。このために、電子線照射によって重合反応を誘起できるフッ化アクリルモノマーを選定し、連続かつ安定に蒸着する装置を開発する。真空プロセスを用いることにより、清浄な環境中でナノメートルレベルの均一な薄膜形成が可能となり、フッ素材料の特性を活かした低誘電率、高絶縁、光学的透明性、低表面エネルギー、かつ熱・化学的安定性に優れた薄膜を形成することが可能となる。
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