酸化シリコン膜の省エネルギー・環境融和型低温形成法の開発

研究課題

研究代表者	堀田將北陸先端科学技術大学院大学, マテリアルサイエンス研究科, 助教授
研究期間 (年度)	2006
概要	フラットパネルに用いる薄膜トランジスタ(TFT)のゲート絶縁膜や保護膜、あるいは電子デバイス加工用の犠牲膜などへ応用ができる低温作製した酸化シリコン(Si)膜を、科学的に安定なシリコーンオイル蒸気とオゾンガス(酸素を含む)を300°C以下の低温で熱分解反応させることにより堆積・形成できるという、省エネルギーであり、環境にも配慮した我々独自の技術を改良、発展させることにより作製し、その技術を確立する。