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シリコーンオイルとオゾンガスを用いた酸化シリコン膜の低温形成

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 地域事業 地域イノベーション創出総合支援事業 シーズ発掘試験

研究代表者

堀田 將  北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科

研究期間 (年度) 2005
概要左図の様に窒素ガスにより気化したシリコーンオイルガスとオゾンガス(酸素を含む)とを電気炉に導入し、その熱分解・生成反応により 250°C程度の低温で形成する絶縁膜、酸化シリコン(Si)膜の電気的特性を向上させ、フラットパネルに用いる薄膜トランジスタ(TFT)などの実用電子デバイスへ使用できることを示すこと。

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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