シリコーンオイルとオゾンガスを用いた酸化シリコン膜の低温形成

研究課題

研究代表者	堀田將北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科
研究期間 (年度)	2005
概要	左図の様に窒素ガスにより気化したシリコーンオイルガスとオゾンガス(酸素を含む)とを電気炉に導入し、その熱分解・生成反応により 250°C程度の低温で形成する絶縁膜、酸化シリコン(Si)膜の電気的特性を向上させ、フラットパネルに用いる薄膜トランジスタ(TFT)などの実用電子デバイスへ使用できることを示すこと。