| 概要 | 製造コストが安価で低閾値のUV ランダムレーザー発振素子の作製方法の確立を目的に、以下の研究を行う。簡単な装置で大量作製可能な“蒸気輸送法”を適用し、Si 基板上あるいはZnO を薄膜被覆したSi 基板上に、粗密のあるZnO ナノロッド(直径約80-150nm、六方晶系、成長軸[001])を先ず成長させ、引き続きそれらのナノロッドを融合(ナノロッドの(010)面が互いに融合)成長させることにより3D のナノハニカム構造(壁の厚さ:80-100nm、壁の隙間(ホール)の直径:20-100nm、厚さ1,000nm 以上)層を作製する。この時、作製条件とナノ微構造形態の関係を明らかにする。次に、これらのナノ構造体にNd・YAG レーザーの3倍波(355nm)を入射させ、360-400nm 範囲のUV 波長域で多重レーザー発振(ピーク値が高く、半値幅の狭い)を起こす閾値を評価し、低閾値を実現するナノ微構造形態を解明し、実用化と応用開拓につなげる。
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