液晶アクティブマスクを用いたフォトリソグラフィ装置の開発

研究課題

研究代表者	柴田隆行豊橋技術科学大学
研究期間 (年度)	2005
概要	半導体技術を応用したマイクロ・ナノマシニングで作製されるマイクロマシンやマイクロ化学分析システムにおいて、最もキーとなるは製品のデザインを決定するフォトマスクにあるといえる。しかしながら、従来のフォトマスクの利用は、そのコストのみならず、マスク作製に多大な時間を要するという問題がある。このため、研究開発における頻繁な設計変更や対象とするアプリケーションに適した多種多様のデバイスデザインに対応するためには、マスク作製プロセスの高スループット・低価格化が重要な課題となる。そこで本研究では、液晶素子をフォトマスクの代替品として利用したリソグラフィ装置を開発し、上記の問題を解決する。