新CVD技術による酸化物単結晶薄膜成長装置の開発

研究課題

研究代表者	藤田静雄京都大学, 国際融合創造センター創造部門, 教授
研究期間 (年度)	2006
概要	酸化亜鉛(ZnO)をはじめとする酸化物半導体結晶を育成する新規技術を開発し、単結晶薄膜育成と伝導性制御の実績を得て、成膜装置としての製品化・実用化を行う(可能性80%以上)。