ナノインプリント技術と超臨界二酸化炭素技術を融合した透明導電性基材の創製

研究課題

研究代表者	大嶋正裕京都大学, 大学院工学研究科, 教授
研究期間 (年度)	2006
概要	超臨界二酸化炭素の可塑化効果および溶媒和効果を利用した新規なナノインプリント技術で、プラスチック成形体あるいは高分子フィルムの表層に、ナノメートル幅のチャンネルをマイクロメートル間隔に格子状に形成し、さらに、その格子状に配置されたチャンネルへメッキ触媒(パラジュウムPd 錯体)を超臨界二酸化炭素の溶媒和効果を利用し蒸着させ、無電解メッキを行うことにより、ナノ構造とマイクロ構造の共存特性を活かしながら、導電性を持ちかつ透明な基板・フィルムを作製する。