「3次元フォトリソグラフィ」のための露光技術及び装置開発

研究課題

研究代表者	佐々木実東北大学, 工学研究科機械・知能系ナノメカニクスコース, 助教授
研究期間 (年度)	2006
概要	本試験では、露光条件を高度に制御し、膜厚変動±20%のレジスト膜厚、段差200μm以上のデバイス底面、幅10μmのパターニングが可能な露光装置を開発することを目的とする。具体的には、高度にコリメーションした光源による斜め露光の検討、工程の少ない処理で均一なパターンを得るための検討を行い、「露光装置」及び「3 次元フォトリソグラフィ」装置の技術開発を行う。