高プラズマ耐性セラミックス膜の高速低音コーティングと応用

研究課題

研究代表者	後藤孝東北大学, 金属材料研究所, 教授
研究期間 (年度)	2006
概要	本試験では、新規のレーザーCVD を用いて、各種セラミックス膜を 1 時間あたり数 100μm以上の成膜速度でコーティングできる技術の開発を目的とする。具体的には、アルミナおよびアルミニウム基板上へのイットリウムおよびイットリウムシリケイト膜の成膜条件を変化させ、組織観察により、最適成膜条件を明らかにする。また、耐プラズマエッチング特性を評価し、実用されている市販材料と比較し、優位性を明らかにする。