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真空紫外CVD法を用いた撮像素子用マイクロレンズ作製技術の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 地域事業 地域イノベーション創出総合支援事業 シーズ発掘試験

研究代表者

亀山 晃弘  宮崎大学, 工学部, 助手

研究期間 (年度) 2006
概要CMOS 型及びCCD 型撮像素子は、今日家電製品から最先端科学技術分野で用いられており、高性能化が期待されている。中でもCMOS 型撮像素子は、従来のCCD 型のものよりもダイナミックレンジが広く、これからの撮像素子として高性能化を目指した技術開発が精力的に進められている。CMOS 型撮像素子表面には、開口率を上げるためマイクロレンズを取り付ける必要があるが、樹脂を塗布した後、加熱してド-ム型に膨らませて製作する従来方法では、素子への熱ダメージが問題となる。代表研究者は、平成17年度に採択された“JST

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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