研究代表者 |
甲藤 正人 宮崎大学, 産学連携支援センター, 助教授
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| 研究期間 (年度) |
2006
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| 概要 | パルスレーザー堆積法はターゲットに高強度レーザーを照射することで、アブレーションと呼ばれる蒸散現象を誘起し、それにより蒸発したイオン、クラスター、原子等を対向に設置した基板上に堆積させることで被膜を生成する方法である。本提案課題においては、新しいターゲット材料供給方法を提案し、それを用いた各種薄膜生成の実証実験を行う。本提案の手法を用いることで、高品質の薄膜が低温で大面積に作成することが可能となる。これにより電子・情報分野のみならず、低温での被膜生成が必要となる各種産業分野においての実用化が見込まれる。
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