| 研究責任者 |
奥山 喜久夫 広島大学
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| 研究期間 (年度) |
2001 – 2004
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| 概要 | プラズマプロセスにおいて、プラズマ中で発生する微粒子の沈着による膜質の低下やプラズマによる直接的な膜質のダメージを低減化する装置を開発するものである。具体的には、レーザ光散乱法(微粒子の可視化)や変調プラズマ電源を用いて、プラズマ反応による生成物の凝縮・凝集現象による微粒子発生を制御するとともに、微粒子を静電気により除去する装置を開発する。プロセス中に発生する微粒子のプラズマの抑制とプラズマダメージの低減化の実現化を目指し、プラズマディスプレイ等のプロセス高度化への寄与が期待される。
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