低温・高速スパッタリング成膜装置

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開研究成果展開事業平成20年度までに募集を終了した事業委託開発

体系的番号	JPMJTT0320
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJTT0320
研究代表者	畑朋延金沢大学, 工学部, 教授
企業責任者	株式会社ライク
研究期間 (年度)	2003 – (非公開)