2021 年度事後評価用資料

二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に資する基盤技術の創出

研究領域

研究総括	黒部篤株式会社東芝, 研究開発センター, 首席技監
研究期間 (年度)	2014 – 2021