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2014 年度 終了報告書
SiC MOSFETの抵抗損失低減のための界面制御技術
研究課題
戦略的な研究開発の推進
戦略的創造研究推進事業
さきがけ
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体系的番号
JPMJPR11C3
DOI
https://doi.org/10.52926/JPMJPR11C3
研究代表者
喜多 浩之
東京大学, 大学院工学系研究科, 准教授
研究期間 (年度)
2011 – 2014
研究領域
エネルギー高効率利用と相界面