極微細加工用レジスト研究とプロセスシミュレーターの開発

研究課題

体系的番号	JPMJCR0745
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR0745
研究代表者	田川精一大阪大学, 産業科学研究所, 教授
研究期間 (年度)	2007 – 2012
概要	イオン化放射線（ＥＵＶ、電子線等）を用いる極微細加工用レジスト中に起きる反応機構を解明し、ナノ分子設計およびプロセス設計に活用し、プロセスシミュレーターの開発を行います。
研究領域	次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究

報告書

(2件)