位相制御光による量子的分子操作と極限計測技術への展開
| 体系的番号 |
JPMJPR05C4 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJPR05C4 |
研究代表者 |
大村 英樹 産業技術総合研究所, 計測フロンティア研究部門, 研究員
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| 研究期間 (年度) |
2005 – 2008
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| 概要 | 提案者はフェムト秒パルスの位相を精密に制御した位相制御光による分子操作技術を開発します。位相制御光は従来の光とは本質的に異なった性質を持っているため、光の位相に依存した新しい量子現象の観測、さらに分子制御の新しい方法論を提示できる可能性があります。光による高度な分子操作技術の基礎研究から計測装置の開発まで連続的な研究を行い、日本初の革新的な計測装置の開発を目指します。
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| 研究領域 | 光の創成・操作と展開 |
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