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オンチップ光配線用窒化物基板の創製とシステム熱設計支援

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 さきがけ

体系的番号 JPMJPR0863
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJPR0863

研究代表者

寒川 義裕  九州大学, 応用力学研究所, 准教授

研究期間 (年度) 2008 – 2011
概要高集積化/電気配線数の増大に伴うスーパーコンピュータの消費電力(発熱)増加に歯止めを掛け、また配線遅延の解消を図るために、次々世代光伝送用の高放熱、高輝度III族窒化物基板を作製することが本研究の目的です。本光伝送部はSi系LSIとの貼り合わせによりシステムの完成を目指します。この目的達成に向け、高放熱AlN基板の創製、システムの熱設計支援を行います。
研究領域革新的次世代デバイスを目指す材料とプロセス

報告書

(1件)
  • 2011 終了報告書 ( PDF )

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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