時空間で精密制御した輻射場による表面反応プロセス

研究課題

体系的番号	JPMJCR20R4
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR20R4
研究代表者	吉信淳東京大学, 物性研究所, 教授
研究期間 (年度)	2020 – 2025
概要	本研究では、THzパルスによる吸着種の低エネルギー振動モードの選択励起とポラリトン形成によるポテンシャル変調を駆使して，時空間領域で精密制御した輻射場により表面反応プロセスを能動的に駆動します．全ての振動モードに統計的にエネルギーが分配される熱反応の欠点を回避し，反応の活性化障壁を下げ、反応を直接駆動するモードを選択励起することで、より低い温度・少ないエネルギーでの反応駆動を目指します。
研究領域	新たな生産プロセス構築のための電子やイオン等の能動的制御による革新的反応技術の創出