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革新的スピン注入技術を用いた縦型半導体スピン素子の創成

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 さきがけ

体系的番号 JPMJPR20BA
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJPR20BA

研究代表者

山田 道洋  大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 特任助教

研究期間 (年度) 2020 – 2023
概要本研究では,原子層制御した強磁性体/半導体界面を有する縦型半導体スピン素子構造を実現することで,室温動作高性能スピン素子の創成を目指します.半導体スピン素子の飛躍的性能向上に向けて,原子レベルで急峻な強磁性体/半導体エピタキシャル界面を実現すると共に,縦型スピン素子中の半導体中間層への原子層ドーピング技術の確立に取り組みます.これにより三次元集積可能な超低消費電力素子の社会実装への道を開拓します.
研究領域情報担体とその集積のための材料・デバイス・システム

報告書

(2件)
  • 2023 事後評価書 ( PDF )   終了報告書 ( PDF )

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2021-03-18   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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