連鎖反応不要な高感度・高解像度反応系設計による高性能極端紫外光レジストの開発

研究課題

体系的番号	JPMJKP24M3
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJKP24M3
研究代表者	古澤孝弘大阪大学, 産業科学研究所, 教授
研究期間 (年度)	2025 – 2029 (予定)
概要	本研究開発では、金属・ハロゲン等の高吸収元素を活用し、かつ、連鎖反応不要なレジスト材料の開発を行います。しかしながら、放射線用レジストでは、光子の選択的吸収を活用できず、反応系で光子のエネルギー利用の選択性を出す必要があります。したがって、単に高吸収元素を添加するだけでは、高性能化は達成できません。放射線化学反応に基づき、レジスト反応系（プラットフォーム）を設計し、Beyond EUVにおいても適用可能な高感度・高解像度レジストを開発します。
研究領域	「次世代半導体微細加工プロセス技術」に関する研究開発構想（プロジェクト型）