連鎖反応不要な高感度・高解像度反応系設計による高性能極端紫外光レジストの開発（仮称）
| 体系的番号 |
JPMJKP24M3 |
研究代表者 |
古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 教授
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| 研究期間 (年度) |
2025 – 2029 (予定)
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| 概要 | 本研究開発では、金属・ハロゲン等の高吸収元素を活用し、かつ、連鎖反応不要なレジスト材料の開発を行います。しかしながら、放射線用レジストでは、光子の選択的吸収を活用できず、反応系で光子のエネルギー利用の選択性を出す必要があります。したがって、単に高吸収元素を添加するだけでは、高性能化は達成できません。放射線化学反応に基づき、レジスト反応系（プラットフォーム）を設計し、Beyond EUVにおいても適用可能な高感度・高解像度レジストを開発します。
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| 研究領域 | 「次世代半導体微細加工プロセス技術」に関する研究開発構想（プロジェクト型） |
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