量子エリプソメータを用いたイオンスパッタ法によるBEUV反射多層膜鏡の開発（仮称）
| 体系的番号 |
JPMJKP24M6 |
研究代表者 |
江島 丈雄 東北大学, 国際放射光イノベーション・スマート研究センター, 准教授
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2025 – 2029 (予定)
|
| 概要 | 次世代半導体露光用の動作波長6.XnmのBEUV（Beyond Extreme Ultra-Violet）光学系には、反射多層膜を利用した反射光学系が使われます。本研究開発では、イオンスパッタ法により膜品質の向上と、膜厚制御のための量子エリプソメータの導入により、BEUV反射多層膜を開発します。開発した反射多層膜を用いてBEUV結像光学系を開発し、BEUV像の取得を試みることで、BEUV露光機の光学技術獲得を目指します。
|
|---|
| 研究領域 | 「次世代半導体微細加工プロセス技術」に関する研究開発構想（プロジェクト型） |
|---|
