固体表面の反応を光と磁場で追う

研究課題

体系的番号	JPMJPR94L7
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJPR94L7
研究代表者	福谷克之東京大学, 物性研究所, 助手
研究期間 (年度)	1994 – 1997
概要	磁場下における表面吸着分子の光励起過程を、レーザー分光法を用いて調べることにより、金属表面近傍における局在スピンのダイナミックスの解明を目指し、さらに磁場による表面反応制御の可能性を探索します。
研究領域	場と反応