| 体系的番号 |
JPMJCR9981 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJCR9981 |
研究代表者 |
小田 俊理 東京工業大学, 量子効果エレクトロニクス研究センター, 教授
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2004
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| 概要 | ナノ結晶シリコンの粒径と粒子間隔を原子スケールで制御した「ネオシリコン」は、粒子内での電子の局在化と粒子間の相互作用により、電子輸送、光放出、電子放出特性などにおいて、従来の単結晶やアモルファスを超える新物性が期待できる第3のシリコン材料です。デジタルプラズマプロセス、ラジカル窒化、化学アニーリング法などのオリジナル技術を駆使し「ネオシリコン」特有の機能を発現させ、将来の情報通信、エネルギ一、医療産業への応用につなげます。
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| 研究領域 | 電子・光子等の機能制御 |
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